低压等离子喷涂厚钨涂层的组织与性能

• 作 者: 杨震晓 刘敏 邓春明 陈明娟 邓畅光 车晓舟
• 机 构: 华南理工大学材料科学与工程学院,广州有色金属研究院
• 出 处: 材料保护
• 发表日期: 2013年2期
• 关键词: 低压等离子喷涂 钨喷涂层 显微结构 孔径分布 low pressure plasma spraying tungsten coatings microstruc
• 基金项目: 国际热核聚变实验堆（ITER）计划项目（2010GB109002）资助

为获得高致密度、高热导率及低氧含量的钨喷涂层，采用低压等离子喷涂（LPPS）技术，以4种不同工艺参数在铬锆铜基体上制备了0．9—1．2mm钨喷涂层。用扫描电镜、氧氮分析仪及闪光导热仪研究了4种钨喷涂层的显微结构、氧含量及热导率，揭示了优化工艺制备的钨喷涂层的孔径分布，分析了喷涂功率和真空室压力对涂层的影响。结果表明，4种钨喷涂层均呈层状结构，优化工艺制备的钨喷涂层的致密度为98．4％，氧含量为0．2％（质量分数），热导率为110．76W／（m·K），孔隙的主要孔径分布范围为0．2～4．0μm，以