干湿法腐蚀工艺条件下CdTe薄膜光谱研究

• 作 者: 宋慧瑾 鄢强
• 机 构: 成都大学工业制造学院,成都金倍科技有限公司
• 出 处: 成都大学学报：自然科学版
• 发表日期: 2012年3期
• 关键词: 等离子体 刻蚀 CDTE薄膜 太阳电池 plasma etching CdTe thin film solar cells
• 基金项目: 国家自然科学基金（60976052）、四川省教育厅青年科研课题（10ZBl44）资助项目.

采用等离子束溅射轰击刻蚀和溴甲醇腐蚀对CdTe薄膜表面进行后处理．对比研究了2种腐蚀条件下CdTe薄膜的光谱特性．结果表明：等离子束溅射轰击刻蚀可以彻底清除CdTe薄膜表面的氧化层，刻蚀后的CdTe薄膜颗粒更为均匀致密，等离子体刻蚀与溴甲醇腐蚀相比，可以改善CdTe薄膜表面的粗糙度，增强薄膜的附着力，改善薄膜的性能．