化学抛光新腐蚀剂

来源 :理化检验通讯(物理分册) | 被引量 : 0次 | 上传用户:songyong
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为了适应生产的发展,我们试验了新的化学抛光腐蚀剂,使用效果较好。本文结合20Mn渗碳钢的化学抛光予以介绍。试剂及配制: H_2O_2;100ml(比重1.1); HF:5~10ml(比重1.1); H_2C_2O_4:2.5g. 特点: 一、采用氟化氢10毫升时,抛光速度快,但质量 In order to adapt to the development of production, we tested a new chemical polishing etchant, the use of better. This article combines 20Mn carburizing steel chemical polishing is introduced. Reagent and preparation: H 2 O 2; 100ml (specific gravity 1.1); HF: 5 ~ 10ml (specific gravity 1.1); H 2 C 2 O 4: 2.5g Features: First, the use of hydrogen fluoride 10ml, polishing speed,
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