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随着科学技术与社会经济的高速发展与不断完善,我国半导体工程得到快速发展,光刻技术是集成电路的关键技术之一,对整个制造成本的和制造质量具有至关重要的影响.但是影响光刻工艺的因素有很多,涂胶显影技术对于改进对对光刻工艺的影响具有重要意义,基于此,文章就此展开深入的分析.
涂胶显影技术改进对对光刻工艺的影响
【摘 要】
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随着科学技术与社会经济的高速发展与不断完善,我国半导体工程得到快速发展,光刻技术是集成电路的关键技术之一,对整个制造成本的和制造质量具有至关重要的影响.但是影响光刻
【机 构】
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南京中电熊猫平板显示有限公司 江苏 南京 210000
【出 处】
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电脑迷
【发表日期】
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2018年12期
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