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Ni—Mn—Ga磁性形状记忆合金薄膜是非常有用的多功能材料，为考察其光学反射特性，采用磁控溅射技术在单晶硅衬底上沉积了Ni56Mn27Ga17合金薄膜，并对其表面形貌和光学反射特性进行研究。研究结果表明，薄膜的表面粗糙度随退火温度的升高而增大；在300～800nm波长范围内，薄膜反射率均随波长的减小而降低，且薄膜整体谱线范围内的反射率随退火温度的升高而降低。