【摘 要】
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针对目前获得的[100]织构金刚石薄膜大多存在非金刚石相含量较多、从而导致薄膜电阻率不高的欠缺,采用两种改进的微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)工艺,即用形核-刻蚀-生长
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针对目前获得的[100]织构金刚石薄膜大多存在非金刚石相含量较多、从而导致薄膜电阻率不高的欠缺,采用两种改进的微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)工艺,即用形核-刻蚀-生长法和形核-刻蚀-生长-刻蚀-生长……循环沉积法,制备出了相组成纯净度较常规沉积工艺显著提高的[100]织构金刚石膜.SEM和XRD分析表明所获得的膜材均具有[100]的择优取向,是[100]织构膜;Raman光谱和SEM对照分析证实膜材中的非金刚石相含量显著降低,尤其是后者的Raman光谱中已无非金刚石相峰存在,表明得到的是一种高纯
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