离子注入多晶硅的电子束退火

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本文介绍利用扫描电子束对离子注入掺杂磷的多晶硅进行退火、研究退火条件对多晶硅载流子激活率,迁移率和结构的影响,并与热退火进行了对比。实验结果表明电子束退火的多晶硅载流子激活率比热退火有明显提高,薄层电阻率也有所降低。 This article describes the use of ion beam implantation of ion-doped phosphorus-doped polycrystalline silicon for annealing, annealing conditions on polysilicon carrier activation rate, mobility and structure, and compared with the thermal annealing. The experimental results show that the polycrystalline silicon carrier activation rate of electron beam annealing is obviously higher than that of thermal annealing, and the sheet resistivity also decreases.
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