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本文介绍了一种高温超导薄膜表面图形成型的化学湿法刻蚀，实验采用饱和乙二胺四乙酸、３％Ｈ３ＰＯ４和饱和ＮＨ４Ｃｌ三种溶液作为腐蚀液，分别对几组ＹＢＣＯ膜样品进行刻蚀，实验中并向腐蚀液和清洗液中通入干燥Ｎ２气，文中给出了测试数据，分析比较了样品刻蚀前后的Ｔｃ，摸索出一种在小尺寸微桥的光刻中对样品超导性能影响最小的化学湿刻技术。