石英玻璃的MeV离子注入效应

• 作 者: 石成儒 T.A.Tombrello
• 机 构: 兰州大学原子核研究所,加州理工学院
• 出 处: 核技术
• 发表日期: 1989年10期
• 关键词: 石英玻璃 离子注入 辐射损伤 Ion-implantation effect Radiation damage Fused silica
• 基金项目: Supported in part by the American National Science Foundation [DMR86-15641]

用电子顺磁共振和光吸收法研究了1—17MeV~(35)Cl和~(19)F离子注入石英玻璃产生的缺陷的特性,并与2MeV质子注入和0.633MeVγ射线辐照的结果作了比较。观察到MeV重离子轰击下石英表面发生分裂和密度变化现象。对于17MeV~(35)Cl~(+4)离子,注入通量约为1×10~(11)Clcm~(-2)下,体收缩率约为0.36 ％。