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介绍了线宽小于１０ｎｍ的多晶硅缝隙纳米线的制作技术，缝纳线技术适用于制作量子器件，光电器件和集成电路。
未来半导体器件及集成电路中纳米线的制作
【摘 要】
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介绍了线宽小于１０ｎｍ的多晶硅缝隙纳米线的制作技术，缝纳线技术适用于制作量子器件，光电器件和集成电路。
【机 构】
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重庆光电技术研究所
【出 处】
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半导体情报
【发表日期】
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1997年1期
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