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采用直接沉淀法制备出粒径为10nm以下的二氧化锡（SnO2）颗粒,将其作为前躯体采用CVD法原位生长碳纳米管,通过XRD、SEM、TEM等方法观察了该复合物的微观结构,对其生长机理做出了合理的推断。
碳纳米管原位包覆金属锡纳米线的制备方法及其生长机理
【摘 要】
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采用直接沉淀法制备出粒径为10nm以下的二氧化锡（SnO2）颗粒,将其作为前躯体采用CVD法原位生长碳纳米管,通过XRD、SEM、TEM等方法观察了该复合物的微观结构,对其生长机理做出了
【机 构】
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浙江大学材料系硅材料国家重点实验室
【出 处】
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材料科学与工程学报
【发表日期】
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2010年4期
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