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国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机不久前在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组在鉴定后认为，芯硕半导体（中国）有限公司的光刻机技术，填补了国内光刻机在该项领域的空白，并且在国际同类产品中处于先进水平。
无掩膜光刻机
【摘 要】
：
国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机不久前在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组在鉴定后认为，芯硕半导体（中国）有限公司的光
【出 处】
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光学仪器
【发表日期】
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2008年1期
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