Hf2＋xMo3—xSi4（x=0.3）的合成,晶体结构及成键特性

• 作 者: 宋明虎 毛少瑜
• 机 构: 厦门大学材料科学系和化学系
• 出 处: 厦门大学学报：自然科学版
• 发表日期: 1999年2期
• 关键词: 晶体结构 成键 铪合金 金属间化合物 合成 Crystal structure Intermetallic compound Transition meta
• 基金项目: 国家自然科学青年基金,国家教委优秀年青教师基金

电弧熔炼方法合成了Ｈｆ２＋ｘＭｏ３－ｘＳｉ４（ｘ＝０．３），单晶Ｘ射线衍射方法测定了晶体结构。化学式，Ｈｆ２．３（２）Ｍｏ２．７（２）Ｓｉ４，Ｍｒ＝７８１．９，晶体学及结构参数：正交晶系，Ｃｅ２Ｓｃ３Ｓｉ４类型，（６２）Ｐｎｍａ，α＝０．６５７（１），ｂ＝１．２８１（４），ｃ＝０．６７７８（１）ｎｍ，Ｖ＝０．５７１６９１）ｎｍ＾３，Ｚ＝４，Ｄｘ＝９．０８４ｇ／ｃｍ＾３，μ＝５０１．５５ｃｍ＾－１（