衬底对钛酸铋铁电薄膜生长及性能的影响

来源 :电子元件与材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：crp123

【摘要】

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采用溶胶-凝胶工艺在Si和Pt/Ti/SiO2/Si两种衬底上制备了Bi4Ti3O12铁电薄膜, 研究了衬底对Bi4Ti3O12铁电薄膜生长及性能的影响.研究表明:Pt/Ti/SiO2/Si基Bi4Ti3O12薄膜的剩余

【作者】

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王华

【机构】

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桂林电子工业学院通信与信息工程系

【出处】

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电子元件与材料

【发表日期】

：

2004年2期

【关键词】

：

铁电薄膜钛酸铋生长行为溶胶-凝胶工艺 ferroelectric thin films Bi4Ti3O12 growth behavior sol-gel

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采用溶胶-凝胶工艺在Si和Pt/Ti/SiO2/Si两种衬底上制备了Bi4Ti3O12铁电薄膜, 研究了衬底对Bi4Ti3O12铁电薄膜生长及性能的影响.研究表明:Pt/Ti/SiO2/Si基Bi4Ti3O12薄膜的剩余极化较高但易出现焦绿石相,而Si基Bi4Ti3O12薄膜易于沿c轴取向生长,有利于改善铁电薄膜与硅衬底之间的界面特性,但8μ(C/cm2的剩余极化却比前者有所降低.

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