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双极晶体管的杂质扩散行为及其ＢｉＣＭＯＳ工艺优化王界平编译１ 引言各种仪器、设备性能的改进，要求集成电路进一步提高其集成度。随着集成度的提高，一方面可以改善性能、提高可靠性；另外也能降低成本、方便维修。提高集成度可以着眼于以下三个方面：（１）缩小器件...
双极晶体管的杂质扩散行为及其BiCMOS工艺优化
【摘 要】
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双极晶体管的杂质扩散行为及其ＢｉＣＭＯＳ工艺优化王界平编译１ 引言各种仪器、设备性能的改进，要求集成电路进一步提高其集成度。随着集成度的提高，一方面可以改善性能、提高可靠性；另外也
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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1994年4期
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