【摘 要】
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日本佳能最近开发了“FPA - 5 0 0 0ESz” 2 5 6MDRAM和下一代MPU等批量生产用KrF准分子激光扫描步进光刻机。本机用于采用 30 0mm圆片的正规批量生产线。它采用边移动对准线侧和圆片侧的双方工
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日本佳能最近开发了“FPA - 5 0 0 0ESz” 2 5 6MDRAM和下一代MPU等批量生产用KrF准分子激光扫描步进光刻机。本机用于采用 30 0mm圆片的正规批量生产线。它采用边移动对准线侧和圆片侧的双方工作台、边曝光的扫描方式。依靠搭载新开发的 1/ 4缩小投影光学
Canon Japan has recently developed KrF excimer laser scanning stepper lithography machines for mass production such as the “FPA-500oESz” 256MDRAM and the next-generation MPU. This machine is used for the regular batch production line with 30 0mm wafer. It uses both the alignment of the side and the side of the wafer side of the table, side exposure scanning. Rely on the newly developed 1/4 zoom projection optics
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