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非晶超晶格多层膜的形成及其光学特性的研究
非晶超晶格多层膜的形成及其光学特性的研究
来源 :应用科学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zlq5626
【摘 要】
:
介绍利用波长为193nm的ArF准分子激光的光化学反应,分解Si_2H_6和C_2H_2原料气体制备a-Si:H/a-Sic:H非晶超晶格多层膜以及讨论这种膜的量子尺寸效应,紫外吸收等光学特性.
【作 者】
:
吴鼎祥
徐克西
【机 构】
:
上海科学技术大学
【出 处】
:
应用科学学报
【发表日期】
:
1994年3期
【关键词】
:
超晶格
半导体
薄膜
光学特性
Photochemical reaction
Superlattice
Quantum size effects.
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介绍利用波长为193nm的ArF准分子激光的光化学反应,分解Si_2H_6和C_2H_2原料气体制备a-Si:H/a-Sic:H非晶超晶格多层膜以及讨论这种膜的量子尺寸效应,紫外吸收等光学特性.
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