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利用包括磁控溅射和热氧化的两步法在Si（111）衬底上制备了Sn掺杂ZnO纳米针.首先用磁控溅射法在Si（111）衬底上制备Sn：Zn薄膜,然后在650℃的Ar气氛中对薄膜进行热氧化,制备出Sn掺杂ZnO纳米针.样品的结构、成分和光学性质采用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM）、能量散射X射线（EDX）谱和光致发光（PL）光谱等技术手段进行分析.结果表明,制备的样品为具有六方纤锌矿结构的单晶Sn掺杂ZnO纳米针,Sn掺杂量为2.5%（