【摘 要】
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2021国际电子信息技术与产业合作论坛于11月6日在第四届中国国际进口博览会现场成功举办.论坛由工业和信息化部主办,中国电子学会承办,中国以色列常州创新园管理办公室协办.rn当前,新一轮科技革命和产业变革正在重构全球创新版图、重塑全球经济结构.作为第四届中国国际进口博览会高端系列配套活动之一,2021国际电子信息技术与产业合作论坛以“新动能?新未来”为主题,深入践行新发展理念,全面推动新一轮高水平对外开放,聚焦电子信息技术创新与产业变革,打造具有国际影响力的高端化、开放式、前瞻性交流合作平台,形成新动能,
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2021国际电子信息技术与产业合作论坛于11月6日在第四届中国国际进口博览会现场成功举办.论坛由工业和信息化部主办,中国电子学会承办,中国以色列常州创新园管理办公室协办.rn当前,新一轮科技革命和产业变革正在重构全球创新版图、重塑全球经济结构.作为第四届中国国际进口博览会高端系列配套活动之一,2021国际电子信息技术与产业合作论坛以“新动能?新未来”为主题,深入践行新发展理念,全面推动新一轮高水平对外开放,聚焦电子信息技术创新与产业变革,打造具有国际影响力的高端化、开放式、前瞻性交流合作平台,形成新动能,服务新经济,建设新时代.众多全球电子信息技术领域的专家、企业领袖将齐聚一堂,一道努力,共商电子信息技术产业国际合作新风向.
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针对自由曲面光学元件面形较复杂的特点,文中提出了一种磁流变抛光最佳的压力场获取方法.首先通过对磁流变抛光自由曲面光学元件抛光区域的压力场进行分析,得到压力场影响因素;其次,结合压力场影响因素,基于几何相贯理论建立压力场量化形态学评价方法;然后,基于自由曲面的几何模型,将该方法分别用于平面、不同曲率的球面和自由曲面,进行不同浸入深度和不同角度的分析,得到对应的压力场面形,再进行压力场形态学评价计算;最后通过对所得的实验数据进行分析,证明该方法能够很好地表征压力场形态学参数.
2021年10月26日,第十三届智慧城市论坛在北京成功举行.本届论坛由北京市经济和信息化委员会指导,北京通信信息协会主办,中国电信股份有限公司北京分公司、中国移动通信集团北京有限公司和中国联合网络通信有限公司北京市分公司协办.
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