【摘 要】
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原子层沉积(ALD)技术是制备复杂纳米结构材料以及材料表面改性的关键技术,该技术已得到了国内外学术界的大量研究。简单介绍了ALD技术、沉积过程、该技术的优点以及该技术可
【机 构】
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山东科技大学材料科学与工程学院,中国科学院微电子器件与集成技术重点实验室,中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心,
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原子层沉积(ALD)技术是制备复杂纳米结构材料以及材料表面改性的关键技术,该技术已得到了国内外学术界的大量研究。简单介绍了ALD技术、沉积过程、该技术的优点以及该技术可以沉积的薄膜材料,重点论述了ALD技术的应用进展,主要包括半导体方面(如IC互连技术、电容器、太阳电池晶体硅表面钝化)以及纳米结构材料方面(如催化剂与燃料电池、光催化、太阳电池、分离膜)。最后,指出了目前ALD在材料制备和生产工艺方面所面临的挑战,并对其未来发展进行了展望。
Atomic layer deposition (ALD) technology is a key technology for preparing complex nanostructured materials and surface modification of materials. This technique has been extensively studied by academics both at home and abroad. The ALD technology, the deposition process, the advantages of the technology and the thin film materials that can be deposited by the technology are briefly introduced. The application progress of ALD technology is mainly discussed, including the semiconductor (IC interconnection technology, capacitor, solar cell crystalline silicon surface blunting ) And nanostructured materials (such as catalysts and fuel cells, photocatalysis, solar cells, separation membranes). Finally, the current challenges of ALD in material preparation and production process are pointed out and the future development of ALD is prospected.
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