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中国科学院微电子研究所将先进的原子层沉积（AtomicLayerDeposition，ALD）技术应用于高光效半导体发光器件的研究，并取得了显著进展。
ALD技术显著提升发光器件效率
【摘 要】
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中国科学院微电子研究所将先进的原子层沉积（AtomicLayerDeposition，ALD）技术应用于高光效半导体发光器件的研究，并取得了显著进展。
【出 处】
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军民两用技术与产品
【发表日期】
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2013年5期
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