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文章阐述了一些制备ZnO纳米半导体材料的常用技术，如模板制备法、物理气相沉积、脉冲激光沉积、分子柬外延、金属有机化合物气相沉积，并分析了各种方法的优缺点。
ZnO纳米半导体材料制备
【摘 要】
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文章阐述了一些制备ZnO纳米半导体材料的常用技术，如模板制备法、物理气相沉积、脉冲激光沉积、分子柬外延、金属有机化合物气相沉积，并分析了各种方法的优缺点。
【机 构】
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河北软件职业技术学院
【出 处】
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企业技术开发：下
【发表日期】
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2009年7期
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