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以铜片为衬底，用硝酸锌水溶液为电解液，采用阴极恒电流还原制备氧化锌薄膜。通过改变电流密度、电解液浓度、温度、离子掺杂等实验条件，系统研究了锌氧化物薄膜材料的电化学沉积过程。用X射线衍射、紫外一可见透射谱、热重一差热等技术对沉积物的结构、组成及光学性质进行了表征，结果表明，电沉积工艺条件显著影响薄膜材料的结构与组成。当电沉积产物中掺杂铜时，薄膜材料的光吸收边从375nm红移到458nm，带隙能从3．3eV降到2．7eV，拓宽了薄膜的吸光范围，这对ZnO薄膜在光学方面的应用具有重要意义。