【摘 要】
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以N2,O2作载气,通过催化增强化学蒸气沉积(CECVD)分别制得在聚酰亚胺上的金属铂、钯及其合金薄层。铂、钯配合物的共同沉积可生成Pt-Pd合金薄膜。在Pd-Pt合金的沉积过程中,Pd
【机 构】
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华中科技大学化学系,华中科技大学化学系,华中科技大学化学系,华中科技大学化学系,武汉光电国家实验室,中国科学院化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室,中国科学院化学研究所高分子物理与化学国家重点实验
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以N2,O2作载气,通过催化增强化学蒸气沉积(CECVD)分别制得在聚酰亚胺上的金属铂、钯及其合金薄层。铂、钯配合物的共同沉积可生成Pt-Pd合金薄膜。在Pd-Pt合金的沉积过程中,Pd/Pt的原子数比率随共同沉积的条件改变而变化。O2为载气、300℃条件下,用Pd(η3-allyl)(hfac)和Pt(COD)Me2作前驱体共沉积制备Pd-Pt合金,得到含Pd37.2%,Pt62.8%且不含碳和氟的合金。
Using N2 and O2 as carrier gas, metal platinum, palladium and their alloy thin films on polyimide were prepared by catalytic enhanced chemical vapor deposition (CECVD). Co-deposition of platinum and palladium complexes can produce Pt-Pd alloy films. During the Pd-Pt alloy deposition, the Pd / Pt atomic ratio varies with the co-deposition conditions. Pd-Pt alloy was prepared by co-deposition of Pd (η3-allyl) (hfac) and Pt (COD) Me2 as precursors at 300 ℃ under the carrier gas of O2, Carbon and fluorine containing alloys.
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