【摘 要】
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用脉冲激光沉积(PLD)法在Si(100)基片上制备金属Mo薄膜,研究薄膜结晶性能与能量密度之间的关系,探讨薄膜生长机制和粒子能量在薄膜生长中的作用。原子力显微镜(AFM)图像显示,
【机 构】
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西华师范大学,中国工程物理研究院,
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用脉冲激光沉积(PLD)法在Si(100)基片上制备金属Mo薄膜,研究薄膜结晶性能与能量密度之间的关系,探讨薄膜生长机制和粒子能量在薄膜生长中的作用。原子力显微镜(AFM)图像显示,薄膜表面平整、光滑,均方根粗糙度小于2nm。X射线衍射(XRD)分析表明,随着能量密度的增加,Mo薄膜衍射峰宽变窄,薄膜从非晶态逐步变为多晶态,晶粒尺寸逐步变大。
The metallic Mo film was prepared on Si (100) substrate by pulsed laser deposition (PLD) method. The relationship between the crystallinity and energy density of the film was investigated. The mechanism of film growth and the effect of particle energy on the film growth were also discussed. Atomic force microscopy (AFM) images showed that the surface of the film was flat and smooth, and the root mean square roughness was less than 2 nm. X-ray diffraction (XRD) analysis shows that as the energy density increases, the diffraction peak of Mo thin film becomes narrower, the film gradually changes from amorphous to polycrystalline, and the grain size gradually increases.
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