PLZT薄膜的溅射沉积和热处理

• 作 者: 雷永明 徐梅娣 等
• 机 构: 上海冶金研究所
• 出 处: 上海工程技术大学学报
• 发表日期: 1999年4期
• 关键词: 溅射沉积 热处理 PLZT薄膜 磁控射频溅射 钙钛矿相 退火 锆钛酸铅镧陶瓷薄膜 铁电薄膜 PLZT thin films Rf magnetron sputt

用磁控射频溅射方法在不加热的硅衬底上沉积生长锆钛酸铅镧（PLZT）薄膜。由混浇法制备了两只氧化物靶材PLZT（5／65／35）和（9／65／35）。初生态薄膜主要是非晶态，所希望的钙钛矿相结构由后处理形成。研究了不同退火条件下焦绿石相和钙钛矿相的转变，实验表明氧气氛下由常规退火（LFA）和快速退火（RTA）可形成钙钛矿相PLZT薄膜。