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用直流平面磁控溅射方法在抛光玻璃衬底上淀积Mo薄膜，将薄膜在真空环境中进行热处理，用扫描探针显微镜（SPM）方法观察了薄膜的表面形貌，X－射线衍射方法分析了薄膜中应力各向异性特征及其与淀积时溅射气体压强和真空热处理的关系。发现薄膜中晶粒具有明显的择优取向，内应力沿径向对称分布，切向应力比径向应力更具有压应力特性，应用的各向异性特征与溅射原子的入射方法有关。真空热处理对薄膜中压应力的释放作用不明显，然而能有效地释放薄膜中的张应力。用HF酸腐蚀衬底的方法制备了自支撑Mo薄膜，发现脱膜前后表面微观形貌未产生大的