热处理过程中纳米非晶Si—N—C粉的晶化及微结构变化研究

• 作 者: 李亚利 梁勇 郑丰 肖克沈 胡壮麒
• 机 构: 中国科学院金属研究所快速凝固非平衡合金国家实验室,中国科学院金属研究所微晶与激光加工实验室
• 出 处: 无机材料学报
• 发表日期: 1996年1期
• 关键词: 热处理 晶化 纳米粉 氮化硅 复合陶瓷 碳化硅 heat treatment crystallization microstructure nanopow

本文在１４７３～１９７２Ｋ温度范围内对激光合成的、平均粒径为３０ｎｍ的非晶Ｓｉ－Ｎ－Ｃ粉进行热处理（ｌａｔｍ．Ｎ２，１ｈ）；研究了粉体的晶化及微结构变化，结果表明，纳米非晶Ｓｉ－Ｎ－Ｃ粉具有短程有序的亚稳结构，此亚稳结构在＞１５２３Ｋ发生稳定团相分离，在１７７３Ｋ开始形成α－Ｓｉ３Ｎ４；β－ＳｉＣ，此时粒子间出现明显的表面扩散形成粒子簇；到１８７３Ｋ晶化加剧，α－Ｓｉ３Ｎ４和β－ＳｉＣ明显增多，并有少量的石墨碳形成。在１７７３～１８７３Ｋ，由固相分离形成α－Ｓｉ３Ｎ４／β－ＳｉＣ纳米复合结构。