【摘 要】
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铜双晶沿晶断口在普通透射电子显微镜中进行了反射电子显微术观察。实验结果表明,经渗铋脆化处理的∑33a铜双晶断口为小面结构,主要由(001)、(?)、及(210)小面组成;晶体生长
【机 构】
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中国科学院北京电子显微镜实验室,中国科学院固体物理研究所
【基金项目】
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国家自然科学基金、中国科学院大型仪器功能开发专项经费资助
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铜双晶沿晶断口在普通透射电子显微镜中进行了反射电子显微术观察。实验结果表明,经渗铋脆化处理的∑33a铜双晶断口为小面结构,主要由(001)、(?)、及(210)小面组成;晶体生长中发生波动时,晶界由(001)面附近偏离到(010)面附近,然后又恢复到(001)面附近,如此往复使晶界成阶梯状。在透射电子显微镜中用背散射电子成像,不仅可以观察断口表面的形貌,也可得到有关小面取向的信息,使反射电子显微术成为观察断口的有效方法之一。
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