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采用有机改性硅酸盐制备了光敏性溶胶一凝胶，并应用四丙氧基锆作为调节折射率的材料．为了增加薄膜与硅片的粘附作用，先用干氧热氧化法在硅片上生长一层厚度约为150nm的SiO2，然后使用提拉法在硅片上提拉成膜，薄膜厚度达到3．6μm．研究发现紫外曝光时间和坚膜时的后烘温度都会使薄膜的折射率增大．样品的原子力显微镜照片表明薄膜的表面非常平整，在5μm×5μm的范围内表面起伏只有0．657nm．利用波导阵列掩膜版，对制备的薄膜在紫外光波段下曝光，得到了表面平坦、侧墙光滑、陡直的沟道波导阵列．