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为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×10^8W/cm^2的355nm紫外激光诱导Cr（CO）6分解,在1.5s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜.结果表明,在开放的环境下,采用高功率密度、短作用时间的方法能够得到高质量的沉积薄膜,满足了微电子行业中对掩模版修复的要求.