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为找到合适的工艺方案，使之能通过磁控溅射在调质40Cr表面制备得到性能良好的CrN涂层，采用正交试验的方法进行试验设计及数据分析。选取氮气流量、工作真空度、靶功率、沉积时间为主要因素，将涂层表面光洁度、涂层厚度、涂层硬度、涂层与基体的结合力作为衡量标准。结果表明最佳工艺方案为：N：流量为40seem，工作真空度为1．2Pa，靶功率为150W，沉积时间为120min。