【摘 要】
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介绍了用“再沉淀法”并经亚胺化成功制成PI(BPDA-PDA)多孔性粒子,粒径为几百nm;在此同时,加入与PAA(PI的先驱体)有较好相容性聚丙烯酸PAS为多孔源(porogen),而在其粒子表面
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介绍了用“再沉淀法”并经亚胺化成功制成PI(BPDA-PDA)多孔性粒子,粒径为几百nm;在此同时,加入与PAA(PI的先驱体)有较好相容性聚丙烯酸PAS为多孔源(porogen),而在其粒子表面生成较深的、较高空穴率的空穴,在20~100nm之间。这种多孔性PI纳米粒子可作为下一代低k值PI膜材料候选者之一。
The porous particles of PI (BPDA-PDA) were successfully prepared by “reprecipitation method” and were imidized. The particle size was several hundreds nm. Meanwhile, the addition of PAA (precursor of PI) The well-compatible polyacrylic acid PAS is a porogen, while deeper, higher hole-rate holes are formed on the surface of the particles, between 20 and 100 nm. This porous PI nanoparticle serves as one of the candidates for the next generation of low-k PI films.
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