【摘 要】
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采用CF4射频感性和容性2种耦合等离子体分别对绝缘用硅橡胶试样表面进行疏水改性。利用原子力显微镜（AFM）和X射线光电子能谱（XPS）分析试样表面微观形貌和表面化学成分变化,采用静
【机 构】
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三明学院机电工程学院功能材料研究室,中南大学物理与电子学院
【基金项目】
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福建省自然科学基金资助项目（2012J01016）, 国家自然科学基金青年项目（11102100）
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采用CF4射频感性和容性2种耦合等离子体分别对绝缘用硅橡胶试样表面进行疏水改性。利用原子力显微镜（AFM）和X射线光电子能谱（XPS）分析试样表面微观形貌和表面化学成分变化,采用静态接触角表征试样表面润湿性的变化。结果表明,2种处理工艺相比,容性耦合等离子体工艺处理后试样表面的Si-F与C-F物质的量比与表面粗糙度的增加量都大于感性耦合等离子体工艺处理试样;CF4射频等离子体对硅橡胶试样表面处理过程中,氟化、剥离和刻蚀的作用同时存在且互相竞争,致使在试样表面引入含氟基团的同时改变了试样的表面微观形貌;试样
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