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大面积金属场致发射阴极阵列制造的新方法
大面积金属场致发射阴极阵列制造的新方法
来源 :电子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:uuu_uuu
【摘 要】
:
本文提出了以玻璃为基质,以厚感光有机膜为铸模,利用光刻法制作大面积金属场致发射阴极阵列的新方法,对该方法的工艺结果进行了计算机模拟并在现有条件下进行了初步的工艺探索,最
【作 者】
:
李天英
朱长纯
薛耀国
张声良
单建安
【机 构】
:
西安交通大学电信学院,香港科技大学
【出 处】
:
电子学报
【发表日期】
:
1996年11期
【关键词】
:
阴极阵列
场致发射
光刻
Cathode array
Field emission
Photolithography
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本文提出了以玻璃为基质,以厚感光有机膜为铸模,利用光刻法制作大面积金属场致发射阴极阵列的新方法,对该方法的工艺结果进行了计算机模拟并在现有条件下进行了初步的工艺探索,最后讨论了改进措施。
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