i线投影光刻曝光系统的光学设计

来源 :光学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:chen19881220
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叙述具有同轴对准特性的光学投影物镜双远心结构和均匀照明光学系统原理。为了满足i线光刻所需的光学传递函数要求,讨论了光刻分辨率和数值孔径的关系。设计了一种新的双远心投影物镜,其数值孔径NA=0.42,放大倍率M=-1/5,像场尺寸15mm×15mm(直径21·2mm),共轭距L=602mm。用光学设计程序ZEMAX-XE计算此i线物镜的像质。设计结果说明,整个视场内波差<λ/4,MTF>0.55,当空间频率为715pairlines/mm,使用波长为365士3nm时。可以实现0.7μm光
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