VHDL高级综合中的多目标工艺映射方法

• 作 者: 马聪 杨勋
• 机 构: 北京理工大学ASIC研究所
• 出 处: 电子科学学刊
• 发表日期: 2000年1期
• 关键词: 高级综合 工艺映射 CAD VHDL 综合系统 High level synthesis Technology mapping VHDL High lev
• 基金项目: 国家自然科学基金,,国家教委博士点建设基金,,国家九五攻关项目,,国防科技预研项目的资助

从国内情况看，高级综合系统的目标，即后端ＣＡＤ版图工具可分为两大类，一类只能接收门级网表；而另一类其单元库较为完备，往往能接收较大颗粒度的宏单元。针对这种情况，本文研究高级综合结果与后端工艺的衔接问题。提出多目标多层次工艺映射（ＭＬＴＭＭＴ）策略。旨在与多种工艺衔接，解决实现该策略的有关问题。（１）给出多目标工艺映射方法的形式化描述；（２）给出在多个层次上的多目标工艺映射方法；（３）分析研究多种库