论文部分内容阅读
采用磁控溅射法在单晶硅（100）和304不锈钢基底上沉积不同Mo含量的Zr1-xMoxN（x=0.05，0.14，0.42，0.52）复合膜，采用X射线衍射仪、纳米压痕仪（CSM）、摩擦磨损试验机、扫描电镜和能谱仪研究复合膜的显微结构、力学性能及摩擦性能。结果表明：Zr1-xMoxN复合膜以fcc （Zr，Mo）N结构为主，随x增大，薄膜中会出现fcc Mo2N相。复合膜的硬度从28.1 GPa（ZrN）增加至29.6 GPa（x=0.05），x继续增加，硬度逐渐降低。室温下，薄膜的摩擦因数由0.69（Z