H2对SrBi2Ta2O9薄膜表面形貌和铁电性能的影响

来源 :南京航空航天大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:batjbf
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在Pt/TiO2/SiO2/Si衬底上,用金属有机物分解(MOD)法制备了SrBi2Ta2O9(SBT)铁电薄膜.通过对SBT薄膜表面形貌变化的结果表明,SBT薄膜经过氮氢混合气氛(forming gas,95%N2+5%H2)退火后,由于氢的还原作用造成了Bi的缺失,从而导致了薄膜铁电性能的退化,SEM结果表明还原出来的Bi在薄膜表面形成柱状结构.而SBT薄膜经过1 h 750℃的氧气氛退火处理后,由于Bi被重新氧化,SBT薄膜的铁电性能可以得到恢复.
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