【摘 要】
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根据电路设计要求,对有特殊要求的器件,合理运用相关版图设计技术。针对器件的不同辐照效应,采用相应的抗辐射版图设计措施。流片测试结果显示,运算放大器的增益和输入失调电
【机 构】
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中国电子科技集团公司第二十四研究所,
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根据电路设计要求,对有特殊要求的器件,合理运用相关版图设计技术。针对器件的不同辐照效应,采用相应的抗辐射版图设计措施。流片测试结果显示,运算放大器的增益和输入失调电压等均达到设计要求。电路具有抗单粒子闩锁能力,抗总剂量大于3kGy(Si)。实现了一种抗辐照高性能运算放大器的版图设计。
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