【摘 要】
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目的：研究钴铬修复体磁共振成像伪影范围。方法：组一制作5mm×5mm×1mm钴铬合金,放置于T1序列中,比较钴铬与其他5种修复材料磁共振成像伪影大小。组二用钴铬合金制作中
【机 构】
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浙江中医药大学口腔医学院修复科,武汉大学口腔医学院修复科
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目的：研究钴铬修复体磁共振成像伪影范围。方法：组一制作5mm×5mm×1mm钴铬合金,放置于T1序列中,比较钴铬与其他5种修复材料磁共振成像伪影大小。组二用钴铬合金制作中切牙、尖牙、第二前磨牙金属底冠、第一二磨牙金属冠,放置于T1序列中,观察磁共振伪影范围。结果：组一中钴铬合金成像伪影最大。组二中钴铬合金冠在上,下颌矢状面上,冠状面,横断面上伪影涉及层数分别为15、19、19、15、18、18。在横断面上显示的单颗牙成像,伪影平均高度是牙冠平均高度的8～10倍,宽度为4～5倍。结论：钴
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