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用于垂直腔面发射激光器的GaAs/AlGaAs的ICP刻蚀工艺研究

来源 :中国激光 | 被引量 : 0次 | 上传用户：longjayliu1

【作 者】

：

王宇 周燕萍 李茂林 左超 杨秉君

【出 处】

：

中国激光

【发表日期】

：

2019年12期

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