纳米金属多层膜与多层纳米线的电化学制备及其表征

来源 :物理化学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:walker1116_2009
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分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行表征,并对Cu/Co多层膜的巨磁阻性能进行了测试.采用电沉积多层膜的方法,以多孔铝阳极氧化膜(AAO)为模板,在纳米孔内沉积Cu/Co多层线,采用TEM对多层纳米线进行了表征. The electrodeposited Cu / Co multilayer films were fabricated by single-cell method and double-cell method, respectively. The preparation conditions of the multilayer films by two electrodeposition methods were studied. The multilayer films were characterized by electrochemical methods, XRD and SEM. Cu / Co multilayers were tested by using the method of electrodeposited multi-layer film, the porous aluminum anodic oxide film (AAO) as a template, the deposition of Cu / Co multilayer lines in the nanopore, the use of TEM The multilayer nanowires were characterized.
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