共溅射法制备的Pt-C薄膜的微观结构和电化学性能的研究

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ren971211
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用共溅射的方法制备了Pt-C薄膜,薄膜由Pt纳米粒子和非晶C组成。电子显微镜和X射线衍射的测试结果显示Pt纳米粒子镶嵌在非晶C之中。高分辨率透射电子显微图像证实了2~3 nm的Pt粒子镶嵌于非晶C层中。Pt和Pt-C薄膜的电化学特性是通过循环伏安法来研究的,电解液为氮气饱和的0.5g/mol的硫酸溶液。与纯Pt薄膜相比,Pt-C薄膜显示了更高的电化学活性面积,这主要是由于非晶C支撑基材的存在降低了Pt纳米颗粒的粒径。 Pt-C thin films were prepared by co-sputtering. The thin films consisted of Pt nanoparticles and amorphous C components. Electron microscopy and X-ray diffraction test results show that Pt nanoparticles embedded in amorphous C among them. High-resolution transmission electron microscopy images confirmed 2 to 3 nm Pt particles embedded in the amorphous C layer. The electrochemical properties of Pt and Pt-C thin films were investigated by cyclic voltammetry. The electrolyte was a nitrogen-saturated 0.5 g / mol sulfuric acid solution. The Pt-C film shows a much higher electrochemically active area than the pure Pt film, mainly due to the reduced Pt nanoparticle size due to the presence of the amorphous C support substrate.
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