压痕法测量Zr基非晶压力敏感因子(英文)

来源 :湘潭大学自然科学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tang18
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
采用压痕法研究了两种Zr基非晶依赖于压力屈服行为,非晶的压力敏感因子可以通过对剪切带之间的夹角(2θ)测量得到.纳米压痕P-h曲线也表现出相似的结果,随着压力敏感因子而改变,这个结果与有限元模拟压痕测量的结果非常一致.剪切带之间的夹角(2θ)和纳米压痕P-h曲线都显著的依赖压力敏感因子改变而变化,这说明非晶是一种依赖于压力屈服行为.压痕实验结果依赖压力敏感因子变化行为进一步说明可以采用压痕法测量非晶压力敏感因子. The indentation method was used to study the dependence of the two Zr-based amorphous structures on the yield stress, and the amorphous pressure-sensitive factors can be obtained by measuring the included angle (2θ) between the shear bands. The nanoindentation Ph curve also shows similar , Which varies with the pressure sensitive factor, is in good agreement with the results of finite element simulation indentation measurements.The angle between the shear bands (2θ) and the nano-indentation Ph curve are significantly dependent on the change in pressure-sensitive factor Which indicates that amorphous is a kind of behavior that is dependent on the yield stress.The results of indentation relying on the changes of pressure sensitive factors further indicate that the pressure sensitive factor of amorphous pressure can be measured by indentation method.
其他文献
我从小就对方便面情有独钟,特别喜欢撕开包装袋直接吃。一天下午,我放学回家,看到爸爸抱回一箱红烧牛肉面。我肚里的馋虫立马被勾上来了。可是,爸妈对我的“癖好”也了如指掌
本文介绍了核心素养的培养目标,并以化学教材必修一“混合物的分离与提纯”课堂教学为例,分析了在本节课中培养学生化学学科核心素养的五个具体策略,并对课堂教学中化学学科
热闹纷繁的中关村电脑节降下了帷幕。过去的这一周,各种活动会议在海淀区的大小场馆内进行着。编者由于分身乏术,只能各处走走看个大略,得出一些简单的印象。关于中关村电脑
浅埋隧道由于具有埋深浅、开挖面大的特点,在开挖过程中遇到的土质分层情况往往比较复杂。隧道掌子面的稳定性会对隧道施工的安全产生重要影响。保证掌子面稳定性的关键在于
随着我国经济社会的不断进步,中国文化在世界上的影响力也越来越大,在文化推广过程中,最为重要的就是语言的发扬光大,因此语文学科也引起了教育领域的足够重视.语文作为一门
第 1期非 1B/ 1R类型和 1B/ 1R类型小麦 K型雄性不育系比较研究宋喜悦 ,方 鹏 ,马翎健 ,等 ( 1)………………………………限域供应 NO- 3 对玉米根系形态及其吸收的影响何 
设计适合初中生心智特征的名著阅读活动非常必要。学生普遍比较喜欢小说类名著,但是往往停留在对情节的猎奇层面,缺少个性化的理解和思考。因此,指导学生读此类名著,最好从传
我的家里摆满了练习书法用的笔墨纸砚。爷爷和爸爸的字都写得很好。每次看到他们挥毫疾书,我都特别羡慕。空闲的时候,我会拿着爸爸的旧毛笔在地上练习,也会翻看书架上的字帖
美国麻萨诸塞州Woburn的Innovations InOptics公司在新的LED照明Lumi Bright LE系列工程中,已作出决定并安排使用德国Bayer Ma-terial Science(BMS)公司的聚碳酸酯树脂。Inox
本文介绍了一种新型的旋涂硼掺杂剂。这种掺杂剂是根据硼-氮的化学性质制作出来的,它不同于根据硼-氧化学性质制作的常规旋涂硼掺杂剂。这种新的掺杂剂具有所有旋涂掺杂剂的