低压铜基甲醇含成催化剂活性表面的XPS和TPD表征

• 作 者: 陈鸿博 蔡俊修 张鸿斌 蔡启瑞
• 机 构: 厦门大学化学系,厦门大学化学系物理化学研究所,物理化学研究所,物理化学研究所
• 出 处: 厦门大学学报(自然科学版)
• 发表日期: 1990年4期
• 关键词: 铜基 甲醇 催化剂 活性 XPS TPD Mcthanol synthesis Cu-based catalysts XPS TPD

对用共沉淀法制备并经氢预还原活化的三组份 Cu-ZnO-Al_2O_3 和四组份Cu-ZnO-Al_2O_3-M_2O_3(M=Sc~(3+)、Cr~(3+)或In~(3+))铜基甲醇合成催化剂进行 XPS,XPS-Augcr,TPD谱表征及CO吸附量测定,研究铜基甲醇合成催化剂活性表面铜的化学态。根据原子价补偿原理及本实验结果,在温和还原条件下,催化剂活性表面存在少量Cu~+,它是 CO、H_2 的吸附活性位。