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半导体工艺基本流程和要求，调平在各主要工艺中的必要性。调平分为调与测2个步骤，几种常用测平工具和方法和在工艺调平中的应用。
基于半导体工艺的设备调平技术
【摘 要】
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半导体工艺基本流程和要求，调平在各主要工艺中的必要性。调平分为调与测2个步骤，几种常用测平工具和方法和在工艺调平中的应用。
【机 构】
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重庆声光电有限公司
【出 处】
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设备管理与维修
【发表日期】
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2018年1期
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