【摘 要】
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利用直流反应磁控溅射在柔性衬底（聚乙烯对苯二酸脂,PET）上低温沉积了对可见光透明的低电阻率的ZnxCd（1-x）O薄膜,并研究了Zn含量x对ZnxCd（1-x）O薄膜的结晶性能、电学性能及光学性能
【机 构】
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杭州电子科技大学电子信息学院,浙江大学硅材料国家重点实验室
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利用直流反应磁控溅射在柔性衬底（聚乙烯对苯二酸脂,PET）上低温沉积了对可见光透明的低电阻率的ZnxCd（1-x）O薄膜,并研究了Zn含量x对ZnxCd（1-x）O薄膜的结晶性能、电学性能及光学性能的影响.XRD分析结果表明,当x〈0.65时,薄膜为CdO结构,但x〉0.65时,薄膜为高度取向的ZnO结构.Hall效应测试显示,当x≤0.5时,薄膜的载流子浓度很高,电阻率为10^-3Ω·cm的数量级;迁移率随x增加先增大,在x=0.5处达到极大值,然后随x的增加而降低.紫外可见透射谱表明,掺Zn
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