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【摘 要】
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化学气相沉积 (ChemicalVaporDeposition ,CVD)技术可用在高熔点金属如Mo、Re、W等表面制备结合力好的铂族金属涂层。用CVD法可得到具有微细晶粒的致密金属 (无针孔 )涂层 ,
【机 构】
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【出 处】
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贵金属
【发表日期】
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2000年04期
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