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对采用磁控溅射法制备的氮化碳（CNx）薄膜进行了傅里叶变换红外光谱（FTIR）的测量与特性分析。结果表明，薄膜中含有C≡N键、C=N键以及C—N键，但样品中碳氮键总体数量偏少，N含量偏低，N／C比偏低。改变制备工艺条件，薄膜中原子的化学结合状况会发生相应的变化。
氮化碳薄膜的红外光谱（FTIR）特性分析
【摘 要】
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对采用磁控溅射法制备的氮化碳（CNx）薄膜进行了傅里叶变换红外光谱（FTIR）的测量与特性分析。结果表明，薄膜中含有C≡N键、C=N键以及C—N键，但样品中碳氮键总体数量偏少，N含量偏低，N／C
【机 构】
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镇江船艇学院物理教研室,江苏大学材料科学与工程学院
【出 处】
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矿冶工程
【发表日期】
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2006年3期
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